CGD 推出新型低熱阻GaN功率IC封裝,適用於資料中心和逆變器等多種應用

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劍橋氮化鎵器件公司(Cambridge GaN Devices,簡稱CGD),一家專門開發節能GaN功率裝置的無晶圓廠潔淨技術半導體公司,近日宣布推出兩款新型ICeGaN 系列GaN功率IC封裝,具有低熱阻且便於光學檢查。這些新封裝提供了更高的功率輸出、節省了系統成本,並提高了可靠性。

新封裝的特點和優勢

CGD新推出的封裝包括DHDFN-9-1和BHDFN-9-1,均採用了經過充分驗證的DFN封裝技術,具備堅固可靠的特點。

  • DHDFN-9-1(雙散熱器DFN):這是一種薄型雙面冷卻封裝,外形尺寸僅為10×10毫米,並採用了側邊可濕焊盤技術,便於光學檢查。其低熱阻(Rth(JC))設計使其可以通過底部、頂部和雙側冷卻管道運行,設計上具有靈活性。特別是在雙側冷卻配置中,效能優於常用的TOLT封裝。該封裝還採用雙門引脚設計,有助於優化PCB佈局和簡單並聯,使客戶能夠輕鬆處理高達6千瓦的應用。
  • BHDFN-9-1(底部散熱器DFN):這是一種底部冷卻式組件,同樣採用了側邊可濕焊盤技術,便於光學檢查。其熱阻為0.28 K/W,比肩或優於其他領先設備。BHDFN的外形尺寸為10×10毫米,雖然比常用的TOLL封裝更小,但具有相似佈局,便於使用和評估。

提高熱阻效能有以下好處:

  • 更高功率輸出:在相同的RDS(on)下可以實現更多的功率輸出。
  • 降低運行溫度:設備在相同功率下也能以較低的溫度運行,從而減少散熱需求,降低系統成本。
  • 提高可靠性和壽命:更低的工作溫度也會帶來更高的可靠性和更長的壽命。
  • 降低成本:如果應用需要更低的成本,設計者可以使用具有較高RDS(on)的低成本產品來實現所需的功率輸出。

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圖片及資料來源:美國商業資訊、英商劍橋氮化鎵器件有限公司

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