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Dai Nippon Printing (簡稱 DNP) 已開始開發用於 2 奈米世代邏輯半導體的光罩製造製程，支援半導體製造的 EUV 極紫外光微影製程。
DNP 在 2023年完成了用於 3 奈米世代 EUV 微影的光罩製造製程的開發，並開始開發 2 奈米世代技術。如今在 2024 年將開始全面開發用於 2 奈米世代 EUV 微影技術的光罩製造製程，包括第二和第三套多電子束掩膜微影系統的運行。
DNP 計畫在 2024 年度啟用第二和第三套 MBMW 光罩微影系統，以加快 2 奈米世代 EUV 微影光罩的開發。
等到 2025 年度，DNP 將完成支援 EUV 微影的 2 奈米世代邏輯半導體光罩製造製程的開發。從 2026 年度起將推進生產技術的建立，以期在 2027 年度開始批量生產。
此外，DNP 還著眼於 2 奈米及更高世代技術的開發，與總部位於比利時魯汶的頂尖國際研究機構 imec 簽訂協議，共同開發下一代 EUV 光罩。
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圖片及資料來源：美國商業資訊、Dai Nippon Printing
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